离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺，使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜。然后，来自靶材的溅射材料沉积在附近的衬底上形成薄膜。
一些应用将使用溅射靶材的组件，该组件可被索引以创建多层薄膜。大多数IBD应用将使用第二个离子源IBAD来控制和增强溅射膜的性能。
离子束沉积系统IBD特点
电抛光不锈钢腔室（D形盒）
带手动快门的前门上的4“直径观察口
匹配双级旋转叶片泵的涡轮分子真空泵系统
带会聚束离子源和电源的离子束沉积，易于安装靶材
具有发散束离子源和电源的离子束辅助沉积
带沉积控制器的石英
晶体厚度传感器
带数字读数的质量流量控制器
带数字显示和读数的全量程真空计
半自动控制系统
