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  • 纳米压印光刻机 FPSUS-SMILE

    品牌:进口 价格:0.00
    纳米压印光刻机SMILE制作微光学器件的纳米压印光刻系统,也是晶圆级相机,图像传感器生产中所需的设备。纳米压印光刻机SMILE可在其掩模对准器平台上进行大面积图案化。
  • 3D多光子聚合光刻机是采用飞秒激光多光子聚合MPP技术设计的3D多光子聚合打印机,为用户提供高分辨率3D光刻胶打印方案。
  • 无掩膜光刻机 FPKLO-UV

    品牌:孚光精仪 价格:0.00
    这套无掩膜光刻机具有无掩模光刻技术的便利,大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球**的无掩模光刻系统。
  • 多波长激光直写光刻机是全球**的多波长激光光刻机,它提供325nm,375nm,405nm,445nm紫外光源对光刻胶直写或紫外敏感胶直接刻划获得微纳结构,直写面积高达12英寸,***小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。适合晶圆直写面积:1-12英寸
  • 高分辨率激光直写光刻机是全球**的多功能激光光刻机,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达6英寸,***小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。晶圆直写面积:1-6英寸
  • 微型激光直写光刻机 FPKLOE-Dilase250

    品牌:孚光精仪 价格:0.00
    微型激光直写光刻机是全球**的桌面型高分辨率激光光刻系统,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达4英寸,***小特征尺寸(宽度)可达1微米。晶圆直写面积:1-4英寸
  • 这款飞秒激光直写光刻系统laser lithography system是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻系统基于多光子聚合技术(multi photon polymerization, mPP),适合市场上的各种光刻胶(photoresists ),能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是全球**的激光光刻机.
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