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  • 多波长激光直写光刻机是全球领先的多波长激光光刻机,它提供325nm,375nm,405nm,445nm紫外光源对光刻胶直写或紫外敏感胶直接刻划获得微纳结构,直写面积高达12英寸,最小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。
  • 高分辨率激光直写光刻机是全球领先的多功能激光光刻机,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达6英寸,最小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。
  • 微型激光直写光刻机是全球领先的桌面型高分辨率激光光刻系统,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达4英寸,最小特征尺寸(宽度)可达1微米。
  • 无掩膜光刻机 FPKLO-UV

    品牌:孚光精仪 价格:0
    这套无掩膜光刻机具有无掩模光刻技术的便利,大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球领先的无掩模光刻系统。
  • 这款飞秒激光直写光刻系统laser lithography system是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻系统基于多光子聚合技术(multi photon polymerization, mPP),适合市场上的各种光刻胶(photoresists ),能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是全球领先的激光光刻机.
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