真空紫外VUV相干光源PEV系列是114nm真空紫外激光器光源,非常用于光电子能谱PES应用的激发光源。采用深紫外激光技术实现114nm和11eV光子能量的真空紫外光源。
真空紫外VUV相干光源通过将VUV光源与角度分辨光电子能谱（ARPES）和飞行时间TOF分析仪器集成,可以构建新的材料开发工具，用于开发电池材料和纳米材料。这也有助于实现全新的激光光电子谱仪。
真空紫外VUV相干光源的11eV激光输出是相干的，因此可以用单个透镜聚焦在目标样品上（可提供微聚焦选项）。
通过将所有光学元件集成到一个单元中，无需现场调整设备。因此，从设备交付到光电子能谱仪启动的前置时间可以缩短。
真空紫外VUV相干光源规格参数
| 型号 |
PEV-H |
PEV-L |
| 光子能量 |
11eV *1 |
| 光子能量分辨率 |
< 0.6meV |
| 重复频率 |
50MHz |
5MHz *2 |
| 输出激光功率 *3 |
> 5μW |
>3μW |
| 脉宽 |
< 30ps |
| 特色 |
抑制峰值功率，从而减小空间电荷效应 |
可根据客户的TOF应用选择出厂预设重复频率*2. |
*1 相当于114nm波长
*2 可选范围 0.5MHz – 5MHz
*3 初始功率
真空紫外VUV相干光源应用
光电子能谱
ARPES：角分辨电子光谱仪的激发光源，
角分辨光电子能谱
TOF：光电子能谱仪的激发光源
