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3D激光共聚焦形貌显微镜
  • 3D激光共聚焦形貌显微镜是高速共焦激光扫描显微镜CLSM-孚光精仪

3D激光共聚焦形貌显微镜

3D激光共聚焦形貌显微镜是一种高速共焦激光扫描显微镜(CLSM),用于精确可靠的三维测量,从一系列光学剖切图像中提供目标物体的三维描述,通过该算法,横截面图像被直接转换为三维轮廓数据。这种独特的原始截面图像,直观地解释,使表面轮廓数据绝对优于其他光学技术。
型号:
FPNAN-NS-3600
品牌:
价格:
¥0.00
类别:
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线021-51300728 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-领先的进口精密仪器服务商欢迎您!

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3D激光共聚焦形貌显微镜是一种高速共焦激光扫描显微镜(CLSM),用于精确可靠的三维测量,从一系列光学剖切图像中提供目标物体的三维描述,通过该算法,横截面图像被直接转换为三维轮廓数据。这种独特的原始截面图像,直观地解释,使表面轮廓数据绝对优于其他光学技术。

3D激光共聚焦形貌显微镜特点
-高分辨率无损光学三维测量
-实时共焦成像
-各种光学变焦
-同时亮场和共焦成像
-具有精细自动聚焦的自动增益搜索
-倾斜补偿
-简易分析模式
-精密可靠的高速测高
-通过半透明基板检查特征
-无样品制备
-宽范围检测的图像拼接
3D激光共聚焦形貌显微镜应用
-半导体:IC图形,凸点高度,线圈高度,缺陷检查,CMP工艺
-FPD产品:触摸屏检查,ITO图案,LCD柱垫高度
-MEMS器件:结构的三维轮廓,表面粗糙度,MEMS图形
-玻璃表面:薄膜太阳能电池,太阳能电池纹理,激光图案
-材料研究:模具表面检查,粗糙度,裂纹分析
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3D激光共聚焦形貌显微镜测量表面粗糙度
3D激光共聚焦形貌显微镜规格参数
型号 显微镜 NS-3600 Remark
物镜放大倍数 10× 20× 50× 100×  
观察/
测量范围
水平 (H): μm 1400 700 280 140  
竖直 (V): μm 1050 525 210 105  
工作距离: mm 17.5 4.5 1.0 1.0  
数值孔径 (N.A.) 0.30 0.45 1.0 1.0  
观察/测量的光学系统 小孔聚焦光学系统  
Height Measurement Measuring scan range 10 mm  
Display resolution 0.001 µm  
Repeatability σ 0.02 µm Note 1
Width measurement Display resolution 0.001 µm  
Repeatability 3σ 0.03 µm Note 2
Frame memory Pixel count 1024x1024, 1024×768, 1024×384, 1024×192, 1024×96  
For confocal image 12 bit  
For color image 8-bit for RGB each  
For height measurement 16 bit  
Frame rate Surface scan 20 Hz to 160 Hz  
Line scan ~8 kHz  
Laser beam light source for
confocal measurement
Wavelength Red laser, 638 nm  
Output ~2 mW  
Laser Class Class 3b  
Laser light-receiving element PMT (photomultiplier tube)  
Light source for optical observation Lamp LED  
Color camera for Optical observation Imaging element Color CCD image sensor  
Recording resolution 1296x966  
Data processing unit Dedicated PC  
Power supply Power-supply voltage 100 to 240 VAC, 50/60 Hz  
Current consumption 500 VA max.  
Weight Microscope Approx. ~50 kg (Measuring head unit : ~12.5 kg)  
Controller ~8 kg  
Vibration isolating system Pneumatic isolator  
  • Note 1 :

    100 times measurement of standard sample (1µm step height) with 100× / 0.9 objective.

  • Note 2 :

    100 times measurement of standard sample (5µm pitch) with 100× / 0.9 objective.

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