当前位置: 首页  >> 产品展示  >> 材料物理仪器  >> UHV扫描探针显微镜  >> 查看详情
聚焦离子束蚀刻系统
  • 聚焦离子束蚀刻系统_多功能FIB系统满足超高真空UHV条件-孚光精仪

聚焦离子束蚀刻系统

这套聚焦离子束蚀刻系统是一种超高真空UHV条件多功能FIB系统,既可以配置为扫描电子显微镜SEM,也可以配置为结合SEM和高性能聚焦离子束FIB的双束平台。
型号:
FPORS-FIB
品牌:
价格:
¥0.00
类别:
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线021-51300728 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-领先的进口精密仪器服务商欢迎您!

销售排行榜

    暂无信息

推荐

    暂无信息

浏览历史

  • 商品详情
这套聚焦离子束蚀刻系统是一种超高真空UHV条件多功能FIB系统,既可以配置为扫描电子显微镜SEM,也可以配置为结合SEM和高性能聚焦离子束FIB的双束平台。
这套聚焦离子束蚀刻系统采用模块化结构,允许大量选择符合终端用户特定需求和目标的SEM和FIB柱。为要求最严格无污染环境的样品提供最佳、完整和定制的FIB纳米加工、表面分析解决方案。
聚焦离子束蚀刻系统特点
全高真空设计-无污染:是第一台超高压设计的FIB-SEM仪器
完全可定制的系统-超高压纳米空间可以定制,以便完全满足特定需求。
在选择时给予了完全的灵活性-FIB柱、SEM柱、注气系统和其他附加配件,视要求而定
高质量设计-优越的条件和独特的双光束几何允许
原位扫描电镜与优质二次钢的相关性
单个仪器中的离子质谱图像
高分辨率成像-纳米空间可以集成静电扫描电镜或,既能产生高质量图像的磁性扫描电镜
准确的样品控制-超高真空兼容6轴工作台允许装载样品,长度和宽度小于或等于100 mm
全自动仪器-纳米空间控制和成像软件,符合人体工程学,易于使用。真空系统完全关闭自动化,以确保安全,快速和方便的真空操作
特高压连接-特高压中间室的设计是为了确保与特高压第三方完全连接的仪表,系统、工艺集群或同步加速器束线
还可以配备超高压兼容的气体注入系统(GIS),用于局部金属沉积和选择性蚀刻。也可以通过超高压中间室与第三方系统(如MBE集群、表面分析仪器)进行现场连接。这种连接性拓宽了纳米空间的应用范围。
$title

  Vacuum Performances

  Main Chamber Vacuum

  5.10-10 mbar

  UHV Configuration

  Maximum instrument bakeout
  temperature is 120°C

  Sample Main Chamber Introduction

  30 min

相关商品

    暂无信息
多 快 好 省
新手上路
顾客必读会员等级折扣商品退货保障
购物指南
购物流程会员介绍常见问题联系客服
配送方式
上门自提211限时达配送服务查询配送费收取标准海外配送
支付方式
货到付款在线支付邮局汇款公司转账
售后服务
售后政策价格保障退款说明返修/退换货

在线客服系统