多功能物理气相沉积平台可搭载溅射,热蒸发,电子束蒸发,等离子体和离子束处理功能模块,是多功能PVD系统。允许*大的腔室投掷距离，并能够适应*多工艺增强。
多功能物理气相沉积平台具有500mm x 500mm的底板,***多可容纳8个源和各种PVD工艺,广泛适合科学研究、生产需求。
多功能物理气相沉积平台沉积源选项
溅射：射频、直流、脉冲直流、HIPIMS和无功。可提供圆形、线性和圆柱形阴极。
热蒸发：有了Amod PVD平台，您可以使用各种长丝和坩埚加热器。自动调谐确保精确的速率控制。
电子束蒸发：有多种电源和电源选项可供选择。带有配方存储的可编程扫描控制器通过Aeres软件平台进行控制。扭矩感应坩埚分度仪检测凹槽堵塞。Amod室中有多个电子束源的空间。
等离子体和离子束处理：我们在Amod物理气相沉积平台中使用一系列离子源进行清洁和膜增强，包括辉光放电等离子体清洁。
多功能物理气相沉积平台特点
易于使用但高度**的集成软件平台
PC/PLC控制的配方，用于单个、批次或自动化过程
**的数据记录和流程跟踪确保了流程的一致性和可重复性
高分辨率控制提供了令人印象深刻的低速率稳定性和一致的掺杂率
中央控制站管理每个模块并调度每个腔室中的过程
多个腔室的独立控制（如适用）
可以轻松创建和修改复杂的配方
自动PID控制回路调整显著缩短了过程开发时间
