晶圆光致发光和缺陷检测系统Imperia系统可检测并分类晶圆缺陷,实现
光致发光（PL）生产监控。
晶圆光致发光和缺陷检测系统将这两个外延后计量筛选功能组合到一个高通量系统中，可***大限度地减少宝贵的晶圆厂空间使用和盒处理时间。该产品可为用户提供显著的经济节约（例如：准确预测MOCVD反应器产量和PM计划）。
晶圆光致发光和缺陷检测系统特点
高密度光谱
光致发光PL映射
晶圆缺陷分析和分类
高分辨率外延层厚度和归一化反射率成像
晶圆形状轮廓和三维翘曲重建
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高密度光谱PL映射：裸晶片和图案化晶片上的峰值λ、峰值强度、半高宽和其他光子学相关参数
