光刻掩膜版

光刻掩膜版photomask是微电子领域高精度光刻掩膜板,光罩、光掩模和X射线成像感光板,采用卤化银感光物质,也可用于同步加速器设备中的布拉格衍射X射线断层摄影和X射线放射成像,性能不低于Agfa（Millimask）和柯达HR-P,TE板。
感光物质寿命：12个月
成像观察寿命：18个月。
光刻掩膜版具有高分辨率，高耐久性和*异的乳剂层与玻璃基底的粘附性能,具有2.5微米的摄像分辨率。
光刻掩膜版标准尺寸***406×300mm,玻璃衬底厚度为2.5mm。 所有光刻掩膜版都配有防晕涂层,我们也可根据客户要求定制不同尺寸的掩膜版。
光刻掩膜版特性

平均敏感度，ISO 负性过程： 反转过程：	0.02 0.04
对比度不小于	5
***大密度不小于	3
***大感光波长	525nm
感光光谱范围	400-565nm
雾密度不大于	0.02
分辨力能力	3,000mm-1
加工后乳液层强度	0.9kg力
乳液层形变温度	55℃

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
订购规格：
63x63mm-30片/包
51x254mm-12片/包
76x76mm-30片/包
102x102mm-30片/包
102x127mm-25片/包
127x355mm-12片/包


63x63mm尺寸包装图

102x127mm规格的包装图

180x240mm及其以上尺寸包装图
处理和处理建议
使用深绿色滤光片（透射区域-530nm及以下）在间接非光化光中开封,加工。 加工溶液温度-20±2℃。 储存条件：湿度65％和12-15摄氏度。

VRP材料制作掩膜版的建议工艺参数
负过程		溶液温度
曝光
显影	研制在蒸馏水中稀释的浓缩VRP显影剂1：5,4-5min	20
冲洗	水3分钟	17±2
固定	固定器5-10分钟	20
洗涤	水3分钟	17±2
***终洗涤	水用润湿剂（Agepon）1min	17±2
干燥	慢气	20±4
冲销过程
曝光
显影	在蒸馏水中稀释的浓缩VRP显影剂1：1.7,4.5min	20
冲洗	水洗3分钟	17±2
漂白	漂白，1.5分钟	20
冲洗	水洗3分钟	17±2
增亮	增亮剂3分钟	20
冲洗	水冲洗5分钟	17±2
照明	500W灯，距离乳液70厘米，1分钟
第二显影	稀释在蒸馏水中的显影浓缩VRP显影剂1：5-3分钟	20
冲洗	水冲洗1分钟	17±2
固定	固定器，2分钟	20±4
冲洗	水洗3分钟	17±2
***终洗涤	带润湿剂的水（Agepon）1min	17±2
干燥	慢气	20±4

 

用于X射线层析成像和放射照相术的VRP光刻掩膜版材料处理方案
程序	化学制品	温度
曝光
显影	柯达RP X-OMAT显影，5分钟	20
洗涤	2分钟	17±2
固定	柯达RP X-OMAT LO固定器，5分钟	20
洗涤	水10分钟	17±2
干燥	慢气	20±4