III族氮化物分子束外延系统

这款III族氮化物分子束外延系统专业为A3N材料生长设计的MBE设备,适合氨气高温下制备生长A3N半导体材料,提供非常广泛的可用生长参数（有效氮通量、衬底温度、生长过程中的真空度）。III族氮化物分子束外延系统设计在衬底上提供极高的温度（>1200℃）以及在长生长周期中加热阶段的可靠工作。利用氨作为活性氮源，可以生长出高质量、厚的AlN/AlGaN缓冲层。这项技术的结果是生长出位错密度极低的活性层，为分子束外延（MBE）创造了记录。

型号：

FPSEM-STE3N

品牌：

价格：

￥0.00

类别：

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商品详情

这款III族氮化物分子束外延系统专业为A3N材料生长设计的MBE设备,适合氨气高温下制备生长A3N半导体材料,提供非常广泛的可用生长参数（有效氮通量、衬底温度、生长过程中的真空度）。III族氮化物分子束外延系统设计在衬底上提供极高的温度（>1200℃）以及在长生长周期中加热阶段的可靠工作。利用氨作为活性氮源，可以生长出高质量、厚的AlN/AlGaN缓冲层。这项技术的结果是生长出位错密度极低的活性层，为分子束外延（MBE）创造了记录。
III族氮化物分子束外延系统系列有两种（STE3N2）和三种（STE3N3）基本类型，配备有缓冲准备室。除了NH3注入器外，III族氮化物分子束外延系统还可能配备氮等离子体源（可选），用于生长InGaN、InAlN和InAlN的活性层藻类：MgIn与氨水混合。
III族氮化物分子束外延系统采用衬底支架和生长操纵器的加热台的**设计，用于III氮化物生长的所有类型衬底（蓝宝石、SiC、Si、AlN）提供了非常高的加热均匀性。允许***大衬底直径100mm,用于基础和应用研发以及基于III型氮化物的高质量外延片的试生产。
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III族氮化物分子束外延系统主要特点：
•特殊的**设计和经批准的生长反应器，在NH3环境和极端基质温度下提供关键系统组件的长期可靠运行
•超大液氮冷冻板，用于有效的氨气泵送，在高NH3负荷下提供连续生长
•**铝源，特殊设计，延长使用寿命，在氨气环境下提供超过2μm/h的AlN生长速率，无金属蠕变
•能够生长质量与在不匹配衬底上生长的MOCVD层相当的GaN外延层
•在系统基本配置中对生长过程进行现场监测的所有必要工具
•获得**的基板支架设计，在整个晶圆上提供高温均匀性
•高温生长操纵器，在不低于1200°С的生长温度下提供高质量AlN层的连续生长
•在210-135 mm范围内改变“源-基”距离的能力，以使用不同类型的电池和晶片OD*化均匀性
•STE3N2双腔型紧凑型“封装外形”
•安装期间的有效技术支持，包括基本工艺转移
•简单的系统操作和定期的技术维护
III族氮化物分子束外延系统主要选项：
•准备室，带有用于基板支架（7个）和脱气台的存储盒，原子氢源专用端口
•额外的渗出细胞（5、15、25、35、60 cc的坩埚）
•附加PID调节器电源单元
•射频等离子体氮源，带有带MFC的氮气供应管线
•SiH₄气体喷射器和带MFC的气体供应管线
•Bayard-Alpert型束流监测器（BFM）
•在涡轮泵中提供额外的原子基底，以及分子泵制备
•带电源装置的钛升华泵
•额外的基板支架，包括用于非标准尺寸样品的适配器
•系统运行的起始材料（Ga、Al、In、NH₃、N₂、Si、Mg、钛金属化蓝宝石晶片等）
•基于相分离器的液氮供应系统
•额外的备件和附件套件
III族氮化物分子束外延系统参数：

烘烤后生长室的***终真空度，Torr	<5×10^-11
***大基板直径，mm	100
3″基板的厚度和成分不均匀度，%	±1
生长机械手加热元件的设计	PBN/PG/PBN
***大基板表面温度，℃	1200
生长室压力，Torr： –基板温度为970°С，氨流量为400 sccm –基底温度为1200°С，氨流量为100 sccm –基底温度为500°С，氨流量为1000 sccm	<1×10-5 <5×10-6 <1×10-5
生长几何学	可调，“源到基片”距离135-210 mm
集成分析	RHEED、BFM（可选）、RGA、激光干涉仪、红外高温计
制备室中基板退火的***高温度，不低于，℃	1100
***大氨工作流量，sccm	100
生长室的烘烤温度，不低于，℃	200，无热点形成
工艺过程自动化	操作员通过控制界面进行手动控制或通过配方执行工艺

激光加工测试系统

光学测量仪器

光学成像系统

激光光学类

光谱辐射测量系统

材料物理仪器

光纤光学仪器

精密位移台

光机械

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