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激光分子束外延系统
  • 激光分子束外延系统Laser MBE集成了普通分子束外延MBE和脉冲激光沉积PLD

激光分子束外延系统

激光分子束外延系统Laser MBE是新型激光薄膜制备技术设备,它集成了普通分子束外延(MBE)的超高真空、原位监测的*点和脉冲激光沉积(PLD)的易于控制化学组分的*点。
型号:
FPSUR-LASER-MBE
品牌:
价格:
¥0.00
类别:
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线021-2279 9028 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-**的进口激光精密科学仪器服务商欢迎您!

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激光分子束外延系统Laser MBE是新型激光薄膜制备技术设备,它集成了普通分子束外延(MBE)的超高真空、原位监测的*点和脉冲激光沉积(PLD)的易于控制化学组分的*点。
激光分子束外延系统特点
增长的激光MBE解决方案:从PLD室和负载锁开始,稍后添加*多模块!
UHV PLD沉积室,通过负载锁定对衬底和目标进行UHV传输
模块化概念:轻松升级到中央传输模块和附加模块
**的工艺自动化,也适用于超晶格沉积
具有**温度测量功能的耐氧基板加热器,1000°C
激光加热基材可选
灵活的**目标操纵器,具有交叉污染屏蔽和目标转盘传送
为系统升级准备的真空室(RHEED、等离子源、OES/FTIR等)
表面通量控制选项,100%可重复结果
全封闭梁线,操作方便、安全
交钥匙交付
通过互联网提供高级在线支持

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PLD/激光MBE室
表面PLD/激光MBE室专为研究而设计,提供**激光MBE所需的所有功能:
衬底和PLD靶的超高压传输
冷壁设计可防止在沉积时间内从室壁放气
用于原位分析的窗口和端口:RHEED、OES或FTIR、质谱
用于附加沉积或等离子源的端口
**的表面衬底加热器或激光加热器
目标操纵器保持一个转盘,转盘上***多有五个直径为1”的PLD目标
此外,用于向腔室中供应工艺气体的两个质量流量控制器通道是标准的。它们能够自动控制工艺气氛和压力。

通过结合控制软件设计目标操纵器,避免了目标表面上的锥体形成,并保证了目标的均匀磨损。激光束将以两个不同的入射角照射目标的每个点,因此无法形成影响烧蚀材料化学计量的锥体。
为了实现均匀的目标磨损,沉积过程中有两种不同的目标运动模式:
摇摆:目标转盘以连续运动的方式来回移动,以便激光束在距离目标中心任意半径处击中目标。该模式易于设置,只需知道目标直径。
扫描:移动目标转盘,使激光束在目标上“写入”定义的轨迹。调整目标旋转速度和轨道间距以匹配激光光斑大小和重复率。这实现了目标表面的非常均匀的磨损。
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该系统可配备表面基板操纵器/加热器,***大基板温度为1000°C,基板直径为1”(可根据要求提供其他尺寸)可选地,激光衬底加热器可用于选择性加热膜和快速加热/冷却速率。所有基板操纵器都包括一个前挡板,以在无沉积运行时保护样品。衬底操纵器针对原位RHEED(反射高能电子衍射)进行了*化:它们允许衬底旋转±120°、倾斜±3°和高度调整,以*化衬底相对于电子束的位置。
SURFACE还提供高压RHEED系统,可现场监控薄膜生长和质量。
如果需要*多的生长加工量,可以将多个PLD/激光MBE室组合成一个集群模块,共享一个激光器。然后,带有自动反射镜的扩展光束线将激光束引导到所需的腔室。激光服务器计算机基于请求表自动控制激光器和光束线,并且PLD腔室中的沉积过程被延迟,直到激光器可用于特定腔室。

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