纳米干涉形貌仪nanoprofilometer是采用微纳干涉显微镜部分相干光的干涉技术制造的纳米
轮廓仪和纳米
形貌仪,可定量测量微米尺度和纳米尺度表面形貌轮廓,并且几秒钟能够采集2百万数据点。
纳米干涉
形貌仪采用部分相干光干涉技术,具有亚纳米精度,比传统
形貌仪*为精密。
纳米干涉
形貌仪提供了功能强大的非接触式光学表面形貌测试工具,可测量各种类型表面,包括光滑的,粗糙的,平整的,台阶表面和倾斜表面等。微纳表面形貌测试无损,快速并且不需要制样。
纳米干涉
形貌仪可提供平整度,粗糙度,波纹度和台阶高度。
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图1：
纳米干涉形貌仪nanoprofilometer实物图
纳米干涉形貌仪nanoprofilometer主要*点：
Z轴分辨率：~30pm(原子smoth mirror，nanorelief模式）
~0,3um (microrelief模式）
相应快速
具有一定的隔振能力
测量过程自动化程度高
用户自定义界面
高质量软件界面良*展示3D测量结果
不同测量形貌可选配不同的显微镜种类
具有nanorelief模式和microrelief模式
三坐标定位样品
软件具有cross-linking功能,可测量大面积样品
独特的软件功能存储和系统化测量结果
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图2：
纳米干涉形貌仪应用-Si衬底上Pd膜厚度,100nm膜层高度（Nanorelief模式）
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图3：
纳米干涉形貌仪应用-Si晶体表面台阶高度,0.314nm高（Nanorelief模式）
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图4：
纳米干涉形貌仪应用-沟槽测量,101 nm ± 3%（Nanorelief模式）
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图5：
纳米干涉形貌仪应用-沟槽深度,40 ± 1.2μm （Microrelief模式）
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图6：
纳米干涉形貌仪应用-衍射器件台阶高度测量,高度3.7μm （Microrelief模式）
纳米干涉形貌仪规格配置
光电探测器：1392x1040像素CCD
光源：630nm LED
微物镜：20X（或者选配10X和5X)
扫描装置：压电陶瓷扫描器件
位移台：Z轴行程50mm, XY行程75x50mm
控制器：包括
位移台控制和整套控制器
软件：包含
纳米干涉形貌仪规格参数
测量面积：0.4mm x 0.3mm (20X物镜）
像素尺寸：0.3
μm(20X物镜）
横向分辨率：等于或*于1
μm
测量模式：Microrelief模式和Nanorelief模式
高度分辨率：~0.3
μm（Microrelief模式）
~30pm (Nanorelief模式,带有自动smoth mirror下）
高度测量范围：***高50mm（Microrelief模式）
***高20um (Nanorelief模式,带有自动smoth mirror下）
测量速度： ~4
μm/s（Microrelief模式）
~20
μm/10s (Nanorelief模式,带有自动smoth mirror下）
形貌轮廓激光显微镜
