高分辨率
激光直写光刻机是全球**的
多功能激光光刻机,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达6英寸,***小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,
晶体,薄膜等诸多衬底。
高分辨率激光直写
光刻机提供竖直和扫描直写模式,确保直接轨迹偏离小于100nm。微型激光直写
光刻机具有电动光学聚焦系统,提供快速精准的聚焦功能,从而适合各种厚度衬底的要求,并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配,增强清洁程度,提高工作量和用户安全程度。
高分辨率激光直写
光刻机兼容大多数商用光刻胶,比如SU8,shipley, AZ等,我们还对K-CL胶特别*化,用于微结构应用。
高分辨率激光直写
光刻机特色
非常紧凑的桌面型设计
掩膜制作和激光直写
激光光源375nm 或405nm 任选
兼容所有商用光刻胶
对比度高达1x20
自动聚焦
竖直直写或扫描直写模式
高分辨率激光直写
光刻机参数
直线直写速度:高达500mm/s
位移台分辨率:100nm
重复精度:100nm
晶圆直写面积:1-6英寸
衬底厚度:250um-10mm
激光光斑大小:1um-50um
标准准直精度:500nm