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激光等离子体EUV光源
  • 激光等离子体EUV光源_LPP-EUV光刻光源采用激光诱导等离子体LPP技术制造-孚光精仪

激光等离子体EUV光源

这款激光等离子体EUV光源是采用激光诱导等离子体LPP技术制造的LPP-EUV光刻光源,具有超高亮度和超低碎屑debris独特优势,非常适合取代Cymer公司LPP-EUV极紫外光源用于光刻。
型号:
FPIST-LPP-EUV
品牌:
价格:
¥0.00
类别:
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线021-51300728 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-领先的进口精密仪器服务商欢迎您!

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这款激光等离子体EUV光源是采用激光诱导等离子体LPP技术制造的LPP-EUV光刻光源,具有超高亮度和超低碎屑debris独特优势,非常适合取代Cymer公司LPP-EUV极紫外光源用于光刻。
这款激光等离子体EUV光源采用快速旋转液体金属靶材,这种创新型的LPP靶材配备碎屑减缓技术(debris mitigation techniques)从而产生了清洁的光子EUV光源。
激光等离子体EUV光源采用快速旋转靶材技术,具有如下特点:
-将液滴碎片重定向到远离输入(激光)和输出(EUV)窗口的位置
-高重复率激光系统(高达1MHZ)的无干扰靶面
-目标连续时所需的最小同步
-优良的固有源空间稳定性
高转速使得液滴角速度分布发生剧烈变化,初始速度与目标线速度相当
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激光等离子体EUV光源型号S规格参数
型号 EUV收集角
sr 
激光平均
功率, W
激光
脉宽, ns 
激光重复
频率, kHz
等离子体
尺寸, µm 
亮度*,
W/mm2sr 
EUV 功率**
mW
收集器寿命***, % 
 s100  0.05  100  1.5    25  60    110  5  >1年
 s200  0.05  200  1.5    50  60    220  10  >0.5年
 s400  0.05  400  1.5    100  60    450  20  >0.5年

激光等离子体EUV光源型号M规格参数

型号 EUV收集角
sr 
激光平均
功率, W
激光
脉宽, ns  
激光重复
频率, kHz
等离子体
尺寸, µm
亮度*
W/mm2sr 
EUV功率**
mW
收集器寿命***, % 
 M100  0.15  100  1.5  25  60  110  15  >1year
 M200  0.15  200  1.5  50  60  220  30  >0.5year
 M400  0.15  400  1.5  100  60  450  60  >0.5year

说明:所有参数均适用于带内(13.5 nm±1%)辐射。带内辐射的转换效率为2%@2π。对于全波段(13.5nm±2%)的转换效率为4%@2π,允许双倍亮度和收集的EUV功率加倍。
通过使用可更换的膜,可以防止任何颗粒到达包含十字线、膜和任何敏感元件的腔室
*-在30-60um不同光源尺寸的等离子体中(亮度越高,光斑尺寸越小)
**-收集后镜像。
***-反射率损失10%的时间

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