薄膜测厚仪TohoSpec 3100是高精度薄膜厚度测量系统,采用小光斑光谱反射计获得薄膜厚度信息,可靠的固态线性二极管阵列可快速、精确地测量单层薄膜，如氧化物、氮化物和光刻胶，以及厚度范围为100Å至30µm的多达3层薄膜堆叠的顶层。
该薄膜测厚仪系统具有卓越的价值，配有多达15种标准薄膜厚度测量算法，在世界各地的实验室中使用，以紧凑的设计提供精确的薄膜厚度测量。
薄膜测厚仪应用
大量应用中提供精确的薄膜厚度测量。保证3层测量，在某些情况下根据参数超过3层。测量具有一定反射率的***光滑或半光滑表面
LED,太阳能，FPD/LCD，OLED，Photomask，电源设备，SOI,HDD磁头等。
薄膜测厚仪规格参数
薄膜层数：***多3层
波长范围：380-800nm
重复精度：2 Å
薄膜类型：可测
n&k数值：可测
测量时间：0.1-25秒
可测薄膜厚度：100Å~30um
可测晶圆尺寸：3,4,5,6,8英寸
