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  • ALD系统 FPANR-AT410

    品牌:进口 价格:0.00
    ALD系统AT410提供了用于3D样品制备的共形导电薄膜解决方案,同时还提供了目前使用溅射/蒸发生长的传统2D涂层。ALD系统AT410不仅推动了边界,而且是当前样品制备过程的有效替代品,所有样品制备都在可比价格点的台式配置内。
  • 等离子体增强原子层沉积系统采用*大的腔室和等离子ALD模块,获得**的原子层沉积效果。
  • 科研型原子层沉积系统ALD系芬兰picosun公司R-200 standard原子层沉积技术,具有**的热壁设计和单独的入口,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。
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