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桌面型紫外掩膜对准机
  • 桌面型紫外掩膜对准机_mask aligner掩膜对准器和冷光源紫外掩膜对准机提供365nm或405nm紫外光-孚光精仪公司

桌面型紫外掩膜对准机

桌面型紫外掩膜对准机是全球首款装备有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜对准器中的理想冷光源紫外掩膜对准机。能够在4英寸工作面积上实现2微米微结构,对准精度高达3微米,广泛用于光刻掩膜对准曝光,适用于微流体芯片,微电子,光学微结构,MEMS等微纳器件的光刻制作。适合4英寸晶圆.
型号:
FPKLOE-UV-KUB3
品牌:
孚光精仪
价格:
¥0.00
类别:
进口曝光机
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线021-51300728 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-领先的进口精密仪器服务商欢迎您!

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桌面型紫外掩膜对准机是全球首款装备有紫外LED光源mask aligner,是掩膜对准器中的理想冷光源紫外掩膜对准机。能够在4英寸工作面积上实现2微米微结构,对准精度高达3微米,广泛用于光刻掩膜对准曝光,适用于微流体芯片,微电子,光学微结构,MEMS等微纳器件的光刻制作。
桌面型紫外掩膜对准机
桌面型紫外掩膜对准机参数
分辨率:2微米
接收掩膜大小:5英寸 (2英寸可选)
接收衬底大小:2-4英寸, 50x50mm 到 100x100mm
系统可视分辨率:3微米 (1.5微米可选)
掩膜/衬底测量距离分辨率:0.5微米
theta衬底位移分辨率:5.10-4度
XYZ衬底位移分辨率:0.4微米(0.2微米可选)
波长:365nm 或 405nm
功率密度:35mW/cm^2
曝光中衬底升温:<1摄氏度
曝光时间:1秒到18小时
可编程曝光循环:>100个
尺寸:475x475x478mm
重量:55kg
触摸屏:15.6寸彩色触摸屏
电力要求:220V
用电功耗:180W
桌面型紫外掩膜对准机

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